K550X具有旋轉(zhuǎn)樣品臺，它也可傾斜，非常適合各種樣品使 用。預選擇參數(shù)及全自動控制使得精確鍍層及重復厚度沉積 更為方便。 磁電管靶使用低電壓，可提高效率，K550X能得到非常精 細的顆粒，由于是冷濺射，所以無需冷卻靶面或樣品臺。 腔室直徑為165 mm(6英寸)，非常方便裝載及移走樣品。 儀器裝有60mm直徑、0.1mm厚的金靶（或用戶選擇），提供 最適合的性能價格比。可選靶材包括金/鈀，鉑/鈀和鉑。 功能集中在儀器面板上及即插即用電子學設計，最大的“up-time”，這些用戶友好設計滿足了不同學科的用戶需求。 濺射參數(shù)可被預先設置，包括氣體放氣針閥，此閥為電磁閥，一旦設置，它就不需要再調(diào)節(jié)。濺射頭互鎖，系統(tǒng)可容易選配K250鍍碳附件。本儀器為全自動操作，可控制獨立的真空泵。 特點 ● 全自動控制 ● 低電壓濺射 ● 高分辨率精細涂層 (金顆?？蛇_2 nm) ● 具有傾斜裝置的特殊旋轉(zhuǎn)臺 ● 均勻厚度沉積 (掃描電鏡一般厚度為20nm 或200埃) ● 165 mm(6英寸)腔室 優(yōu)點 ● 易操作 ● 無需冷卻樣品臺 ● 精確的再次涂層 ● 適合各種樣品 ● 膜厚度重復性好 ● 容易裝載或卸載樣品 ● 可預設沉積厚度 技術(shù)規(guī)格 儀器尺寸:450mm W x 350mm D x 175mm H 重量:18公斤 工作腔室:硼硅酸鹽玻璃 165mm Dia x 125mm H 安全鐘罩:聚碳酸酯 靶：60 mm 直徑 x 0.1mm 厚(金作為標準靶面) 樣品臺直徑為60 mm，靶面距離40mm,具有傾斜裝置的旋轉(zhuǎn)臺 真空范圍:ATM-1x10-2 mbar 濺射電流:0-50mA 沉積速率:0-25nm/分 濺射定時: 0-4 分鐘 預設置針閥:控制氬 電源:230 伏 50Hz (10 amp max. including Pump)