K450X可使用數種碳絲在真空下進行鍍膜。蒸鍍?yōu)楦鱾€ 方向，全自動操作系統使得工作時間相對減少，只需 5分鐘。 系統采用低電壓，大電流，電極之間放置碳絲。 電極裝置上裝備了保護快門，保護樣品在蒸碳除氣過 程中免受熱輻射損害。當完成了這個過程，快門自動 回縮，并且全部功率加到電極上，從而引發(fā)了熔融碳 絲的快速蒸發(fā)或稱“閃蒸”。然后，快門回到了保護 位置。 控制可被預先選擇，以允許使用不同類型的碳絲。 由于樣品臺到電極之間的距離可調以及全自動控制功 能，本儀器可進行重復的蒸鍍沉積厚度。真空過程和 外部旋轉真空泵均完全由本儀器控制。 特點 ● 全自動控制 ● 自動保護快門 ● 沉積厚度均勻，可使用碳絲或碳棒 ● 微控制器全自動控制，也可選擇手動設置參數控制 ● 菜單驅動“用戶”鍵輸入 優(yōu)點 ● 容易操作 ● 在碳絲除氣過程中保護樣品 ● 可進行復型樣品制備 ● 多種用戶都容易操作 技術規(guī)格 儀器尺寸：450mm W x 350mm D x 175mm H 工作腔室：硼硅酸鹽玻璃165mm Dia x 125mm H 安全鐘罩：聚碳酸酯 重量：18Kg 碳源：碳絲 樣品臺：直徑為60 mm（到電極距離為60mm）， 具有傾斜裝置的旋轉臺 真空范圍：ATM - 1x10-2 mbar 安培計：0.50 Amps 低電壓：25 伏 除氣電流：可根據碳源類型選擇。 電源：230 伏 50Hz (10 amp max. 包括泵) K400X是K450X的手動版，區(qū)別在于它不帶旋轉樣品臺，手動除氣，手動開關操作。所有的其它特點和技術規(guī)格與K450X相同。