EMITECH K675X 三靶濺射鍍膜儀 ――高分辨率，大樣品鍍鉻或其它金屬 K675X濺射鍍膜儀可用于8英寸（200mm）晶圓鍍膜。主機(jī)系統(tǒng)具有雙齒轉(zhuǎn)動(dòng)樣品臺(tái)，可進(jìn)行漸進(jìn)的橢圓形轉(zhuǎn)動(dòng)，這樣使得濺射沉積更均勻。 K675X濺射鍍膜系統(tǒng)裝有磁電管靶可增加濺射效率，它使用低電壓，可得到薄而精細(xì)的涂層。 在K675X中放置了三個(gè)靶面，可鍍非常大直徑的樣品，加上旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)，保證了均勻沉積。這種方式不需要特殊的靶面，而用標(biāo)準(zhǔn)標(biāo)即可。 多靶系統(tǒng)在半導(dǎo)體晶圓工業(yè)尤為適用。它使用渦輪分子泵，前級(jí)為旋轉(zhuǎn)機(jī)械泵。集成的儀器面板及即插即用的電子學(xué)最大的“up-time”，以及用戶友好設(shè)計(jì)，保證了多學(xué)科領(lǐng)域的應(yīng)用。 濺射參數(shù)可預(yù)設(shè)，包括氣體放氣電磁閥。獨(dú)立的真空泵系統(tǒng)由儀器自動(dòng)控制。它可用金作為濺射靶材，在需要預(yù)清洗或去除氧化層時(shí)，也可選用其它靶材，如鉻靶。 閘門作為標(biāo)準(zhǔn)配置，這樣在維持真空時(shí)即可進(jìn)行濺射清潔和濺射循環(huán)。 儀器特點(diǎn) ● 配置三個(gè)靶面 ● 渦輪分子泵抽氣系統(tǒng) ● 全自動(dòng)控制 ● Peltier冷卻濺射頭 ● 精細(xì)涂層（0.5nm Cr粒子） ● 可傾斜的特殊旋轉(zhuǎn)臺(tái)作為標(biāo)準(zhǔn)配置 ● 薄膜沉積（典型為5nm） ● 直徑為300mm腔室 ● 可選雙濺射頭 儀器優(yōu)點(diǎn) ● 可對(duì)大樣品進(jìn)行鍍膜，如：8英寸晶圓 ● 可濺射易氧化金屬的精細(xì)顆粒，如：鉻或銥 ● 易操作 ● 無(wú)需水冷卻 ● 超高分辨率，可復(fù)制涂層 ● 適應(yīng)各種樣品 ● 重復(fù)膜厚沉積 ● 樣品容易裝載和卸載，包括8英寸晶圓 ● 不需要打開(kāi)真空即可進(jìn)行兩種金屬順序涂層 技術(shù)規(guī)格 儀器尺寸：450mm W x 500mm D x 300mm H (總高 630mm) 工作腔室：硼硅酸鹽玻璃 300mm Dia. x 20mm H 安全鐘罩：聚碳酸酯 重量：42公斤 靶：54 mm 直徑 x 0.3mm 厚x 3(鉻作為標(biāo)配靶材) 旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)：可調(diào)的6 至 8 英寸晶圓尺寸,到靶距離60mm 真空范圍：ATM-1x10-5 mbar 沉積電流范圍：0-450mA 沉積速率：0-15nm/分 濺射定時(shí)：0-4 分鐘 電源：230 伏 50Hz(包括泵最大電流為8安培) 115 伏 60Hz(包括泵最大電流為16安培) Services Argon - Nominal 10 psi； Nitrogen- Nominal 10 psi (Argon may be used as common gas) 真空泵：No 2. 泵complete with Vac. Hose & Oil Mist Filter 35L/Min 2m3/Hr