EMITECH K975X多用途高真空蒸鍍儀 K975X渦輪蒸鍍儀是一個(gè)多用途系統(tǒng)，它具有靈活性和模塊化擴(kuò)展功能，以適應(yīng)不同的樣品制備。 它可從蒸籃和坩鍋進(jìn)行碳蒸發(fā)、金屬蒸發(fā)并且可選濺射附件。 K975X可應(yīng)用一系列成熟技術(shù)，包括鍍碳及TEM覆形，碳/金屬蒸發(fā)、低角度Shadowing和通過(guò)使用雙源蒸發(fā)進(jìn)行順序涂層，可選的濺射鍍膜附件能適用于各種靶材。 通過(guò)使用微處理控制器，更增強(qiáng)了系統(tǒng)的靈活性，用戶很容易附加各種可選件，但是這些“缺省”都是經(jīng)過(guò)優(yōu)化操作設(shè)計(jì)，使得全自動(dòng)和手動(dòng)操作均可實(shí)現(xiàn)最佳操作。 獨(dú)特的抽屜式樣品裝載系統(tǒng)使用戶方便放入各種樣品，鉸鏈?zhǔn)巾斏w結(jié)構(gòu)很容易達(dá)到系統(tǒng)其它區(qū)域。 渦輪分子泵安裝在系統(tǒng)外部，可方便安裝及更換，它的前級(jí)真空為旋轉(zhuǎn)真空泵。 整個(gè)抽氣過(guò)程為全自動(dòng)控制，達(dá)到高真空后進(jìn)行蒸發(fā)。本儀器為臺(tái)式，可方便地進(jìn)行使用控制，使用中的疏忽也不易造成損壞。 K975S半導(dǎo)體晶圓蒸鍍儀 K975S基于K975X，但是它具有特殊的裝載鎖定門，可允許放入8英寸（200mm）晶圓鍍碳，應(yīng)用于FIB。 儀器特點(diǎn) 儀器優(yōu)點(diǎn) ● 全自動(dòng)抽真空系統(tǒng) ● 容易操作 ● 樣品尺寸可達(dá)140毫米見(jiàn)方或200毫米直徑 ● 使用靈活 ● 獨(dú)特的“anti-stick”碳棒蒸發(fā)機(jī)構(gòu) ● 可靠的碳蒸發(fā) ● 抽屜式樣品裝載系統(tǒng) ● 方便的樣品裝載及卸載 ● 可選的蒸鍍類型，具有四種蒸發(fā)設(shè)置 ● 靈活的操作，可選擇碳及金屬蒸發(fā)源 ● 約束的或開放的排氣控制 ● 在排氣過(guò)程中可防止樣品損壞 ● 可選用各種濺射靶材附件適用于一系列金屬 ● 系統(tǒng)靈活性強(qiáng) ● 可選膜厚監(jiān)測(cè)系統(tǒng) ● 很容易測(cè)量金屬或碳沉積膜厚 技術(shù)規(guī)格 儀器尺寸：450mm W x 500mm D x 300mm H 工作腔室：硼硅酸鹽玻璃，帶有鉸鏈?zhǔn)巾斏w。250mm Dia x 300mm H（樣品可達(dá)直徑200 mm即8"） 安全鐘罩：聚碳酸酯，維護(hù)時(shí)工作腔室很容易移開 重量：65Kg 碳槍：高度可調(diào)，傾斜0-20o ，使用直徑6.15mm碳棒 渦輪分子泵：100L/Second為標(biāo)準(zhǔn)配置，可選各種尺寸 真空計(jì)范圍：ATM - 1x10-7mbar 工作真空達(dá)到時(shí)間：15分鐘內(nèi) 操作真空：10-5 mbar量級(jí)（可選液氮冷阱） 蒸發(fā)源（脈沖或可變控制）：四種模式可選，低電壓a.c. V, 5V, 15V,25V @ 25 amps. 7V @100 amps 樣品臺(tái)：0-45o可傾斜 旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)（可選）：直徑60mm，傾斜0-45o，具有15rpm 到 45rpm可變速度控制 Services