EMITECH K950X 高真空蒸鍍儀 ――應(yīng)用于SEM，TEM及X-Ray K950X高真空蒸鍍儀在使用碳棒蒸鍍時可給出連續(xù)的碳膜，并且使用渦輪分子泵時無污染。它可用于TEM和X-Ray分析中的覆膜，以及SEM中的導(dǎo)電涂層。 在厚度為2nm (20埃)或更厚時膜是連續(xù)的。最通常的沉積形式是加熱碳或石墨棒。棒具有特定的形狀以達(dá)到最大電流密度，使得它具有足夠的溫度來引起蒸發(fā)?；谶@點，出現(xiàn)了細(xì)小的、亮的、熱的碳顆粒。此系統(tǒng)需要用擴散泵或渦輪分子泵達(dá)到1x10-4 mbar或更高的真空度。 渦輪分子泵在K950X中作為標(biāo)準(zhǔn)配置，此泵作為機械真空泵的后級泵，真空為全自動控制，真空度優(yōu)于1x10-5 mbar。可進行預(yù)熱及除氣控制，同時用瞬時蒸發(fā)開關(guān)使脈沖蒸發(fā)在用戶控制下進行。 標(biāo)準(zhǔn)的旋轉(zhuǎn)樣品臺可進行傾斜調(diào)節(jié)，非常容易適應(yīng)各種樣品座?？蛇x的樣品臺具有特殊的凹槽，可放置標(biāo)準(zhǔn)的載玻片，這在“石棉分析”需要鍍碳層時尤為有利。 碳棒頭在儀器中作為標(biāo)準(zhǔn)件。這是一個“快速釋放頭”，使用戶在選擇金屬蒸發(fā)附件、碳絲及光闌清洗頭時可方便地更換。放氣系統(tǒng)具有互鎖裝置，避免樣品受到干擾。渦輪分子泵可安裝在任何軸上，并且可安全地“關(guān)閉”直接通大氣。 儀器特點 儀器優(yōu)點 ● 全自動抽氣系統(tǒng) ● 容易操作 ● 旋轉(zhuǎn)樣品臺 ● 均勻的樣品涂層 ● 菜單驅(qū)動式“用戶”鍵盤輸入 ● 方便多用戶操作 ● 快速釋放頭方便選擇不同的頭 ● 可用于蒸碳及蒸鍍金屬 ● 約束的排氣控制 ● 在排氣過程中可防止樣品損壞 ● 渦輪分子泵抽真空 ● 碳棒或碳絲蒸發(fā) 技術(shù)規(guī)格 儀器尺寸：450mm W x 350mm D x 175mm H (Overall height with Work Chamber 750mm) 重量：28Kg 工作腔室：硼硅酸鹽玻璃165mm Dia x 125mm H 安全鐘罩：聚碳酸酯 鋁機座：110mm Dia x 115mm H 碳 源：直徑3.2mm碳棒 旋轉(zhuǎn)樣品臺：直徑為60 mm，傾斜0-90o 到電極距離為110mm 到 130mm 真空計范圍：ATM - 1x10-5 mbar 操作真空：1x10-2 to 1x10-5 mbar 安培計：0-50 Amps 低電壓選擇：0-5V-15V-25V 除氣電流：0-25 Amps 渦輪分子泵：50L/Second Services -Argon - Nominal 4psi. Rotary Backing Pump -Two Stage Vacuum Pump No. 2, 35L/Min complete with Vacuum Hose & Oil Mist Filter. 2m3/Hr 電源：230V 50Hz (包括泵最大電流8 安培)；115V 60Hz(包括泵最大電流16 安培)