詳細說明
XPH-300V透反射電腦型熱臺偏光顯微鏡,電腦型熱臺顯微鏡,高精度熱臺顯微鏡,偏光熔點測量儀,一、儀器的用途
XPH-300V透反射熱臺偏光顯微鏡是地質、礦產(chǎn)、冶金、石油化工、化學纖維、半導體工業(yè)以及藥品檢驗等部門和相關高等院校的高分子等專業(yè)最常用的專業(yè)實驗儀器。與光學或電子顯微鏡配合使用,在微觀上觀察其溶化、升華、結晶過程中的狀態(tài)和各種變化。
專為材料學、生物化學、冶金學、有機化學、高分子材料學而研制。觀察高聚物熔融和結晶過程中的形態(tài),結晶速率及動力學計算;觀察雙折射體的光學效應;微生物形貌觀察;組織細胞核、壁形態(tài)觀察;地質材料偏光形態(tài)觀察;無機晶體材料觀察,特別對含有結晶體的材料進行熱性能變化的研究更為重要。
二、技術參數(shù) 1.目鏡類別 放大倍數(shù) 視場(mm)
大視野目鏡 10X φ18
分劃目鏡 10X φ18
2.物鏡類別 放大倍數(shù) 數(shù)值孔徑(NA) 蓋玻片厚
無應力平場
消色差物鏡 5X 0.12 -
10X 0.25 -
40X 0.65 -
60X 0.85 -
3.總放大倍數(shù):40X---600
4.目鏡管:轉軸式(傾斜30°),內(nèi)置檢偏器,可自由切換正常觀察與偏光觀察,推入式
勃氏鏡,中心可調(diào),λ補償器,λ/4 補償器,石英鍥補償器
5.透射照明:6V 20W鹵素燈,亮度可調(diào),起偏器可360°旋轉有0、90、180、270四個讀數(shù)
反射照明: 6V 20W鹵素燈,亮度可調(diào), 起偏器可旋轉;
6.載物臺:機械式附加旋轉臺面 尺寸 φ100mm, 360°旋轉
7.調(diào)焦機構:粗微動同軸,齒輪轉動 , 帶限位及調(diào)節(jié)松緊機構
8.聚光鏡:阿貝聚光鏡NA1.25,升降上下可調(diào)
9.防霉系統(tǒng):特有防霉
10.高精度偏光熔點熱臺 XPH-300
①工作溫度:室溫 至320℃(可達350℃)
②起始溫度設定速率:50℃至300℃小于12min ; 300℃至50℃小于15min
③儀器溫度最小讀數(shù):0.1℃
④加熱臺溫度控制準確度: 室溫-200℃時:±0.5℃; 200-320℃時:±1℃
⑤起始溫度設定準確度:±1℃
⑥線性升溫速率(℃/min):0.2;0.5
降溫速度:可設置降到到指定的溫度,從而達到在此溫度的恒溫.
⑦線性升溫速率偏差:±10%
四、系統(tǒng)組成
電腦型(XPH-300V):1.顯微鏡 2.適配鏡 3.攝像器 4.A/D(圖像采集) 5.XPH熱臺
數(shù)碼型(XPH-300D):1.顯微鏡 2.適配鏡 3.數(shù)碼相機 4.XPH熱臺
五、總放大參考倍數(shù) XPH-300V型:50--3400倍 XPR-300D型:50--2000倍六、選購件1.目鏡:16X(Φ11mm) 2.物鏡:20X 50X 80X 100X
3.移動尺(30X25mm) 4.偏光顯微鏡分析軟件