詳細(xì)說明
適應(yīng)大多數(shù)伏安技術(shù),
Windows或Macintosh版本,
沒有編程要求――完全即插即用,
使用大多數(shù)模擬恒電位儀工作,
16位精度(最小值),
數(shù)字信號處理,最佳信噪比,
多次實(shí)驗結(jié)果存儲于同一個文件,
教學(xué)和研究的理想工具.
簡介
eDAQ EChemTM軟件可以運(yùn)行于Windows或Macintosh計算機(jī)上,用于采集、顯示和分析電分析伏安實(shí)驗的數(shù)據(jù)。EChem與e-corder 數(shù)據(jù)記錄系統(tǒng)和恒電位儀聯(lián)用。
EChem兼容帶有“外部輸入”端口和電流、電位記錄輸出端口的模擬信號恒電位儀。EChem使用e-corder硬件作為數(shù)字波形發(fā)生器和數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)。甚至非掃描型恒電位儀也可以升級到使用EChem的所有技術(shù)。
EChem完全兼容eDAQ恒電位儀(EA161)和高靈敏度的eDAQ微電流恒電位儀(EA162)。
技術(shù)
EChem支持下列電化學(xué)技術(shù):
線性(階躍)掃描伏安法(LSV)
常規(guī)脈沖伏安法(NPV)
方波伏安法(SWV)
差分脈沖伏安法(DPV)
循環(huán)(階躍)伏安法(CV)
差分脈沖安培法(DPA)
所有的伏安技術(shù)同時支持溶出模式。
計時安培/計時庫侖/計時電位分析法由e-corder標(biāo)準(zhǔn)配置軟件Chart和Scope提供。
EChem的另一個特色是提供多脈沖伏安技術(shù)。利用梯度斜波,您可以自行設(shè)計電位波形,多達(dá)每階2個電位脈沖。EChem的這個特色功能允許您用新的實(shí)驗技術(shù),例如循環(huán)方波伏安法進(jìn)行實(shí)驗!
良好實(shí)驗室規(guī)范(GLP)
EChem能夠幫助您建立良好實(shí)驗室規(guī)范(Good Laboratory Practice,簡稱GLP):
所有實(shí)驗均有日期和時間標(biāo)記;
任何實(shí)驗中所用的參數(shù)都可以恢復(fù);
數(shù)據(jù)文件中可以存儲采樣準(zhǔn)備注釋、標(biāo)準(zhǔn)加入濃度、以及全面的觀測資料;
“自動存儲”模式中,每次實(shí)驗運(yùn)行的數(shù)據(jù)自動保存到硬盤,在萬一斷電的情況下,數(shù)據(jù)也可以恢復(fù);
同一個數(shù)據(jù)文件中可以保存多達(dá)999次實(shí)驗運(yùn)行結(jié)果;
數(shù)據(jù)文件兼容Windows和Macintosh計算機(jī)。
視圖模式
圖譜顯示為電流vs電位,或電流和電位vs時間。您可以依據(jù)自己的習(xí)慣來反轉(zhuǎn)電流和電位軸的方向。
數(shù)據(jù)板
數(shù)據(jù)板是內(nèi)置的一個小型電子表格。通過定位峰位置、峰高、峰面積以及更多來幫助您分析實(shí)驗數(shù)據(jù)。
轉(zhuǎn)換數(shù)據(jù)
功能包括對數(shù)據(jù)進(jìn)行平滑、積分或微分等處理。電位軸可以偏置將實(shí)驗結(jié)果顯示為針對不同的參考(例如用Ag/AgCl電極工作,但將結(jié)果顯示為相對于SHE參考電極)。而原始數(shù)據(jù)始終在內(nèi)部保留并可以重新獲得。
友好輸出
您可以輸出原始的伏安圖(以圖形或表格數(shù)據(jù)形式顯示)和峰報告到其它的繪圖、文字處理和電子表格軟件。
數(shù)字信號處理
顯示的每個數(shù)據(jù)點(diǎn)都是通過在其“采樣時段”中將電流信號平均化所得到。EChem給出最高質(zhì)量的數(shù)據(jù),這些數(shù)據(jù)可以是來自您自己的恒電位。通過因子√n提高了信噪比,"n"在讀入時也進(jìn)行了平均化處理。在實(shí)踐中,如果噪聲太大,往往通過提高數(shù)量級或其他方法來提高信號質(zhì)量。
信號的平均化通過32位浮點(diǎn)運(yùn)算進(jìn)行。這表示這些差分技術(shù)(SWW,DVP和DPA等)的運(yùn)行結(jié)果不再受限于系統(tǒng)的數(shù)字精度。