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Echem電化學(xué)工作站

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發(fā)貨期限: 自買家付款之日起 天內(nèi)發(fā)貨
所在地: 上海
有效期至: 2011-08-25 [已過期]
最后更新: 2005-09-01 00:00
瀏覽次數(shù): 36987
 
公司基本資料信息
詳細(xì)說明
適應(yīng)大多數(shù)伏安技術(shù), Windows或Macintosh版本, 沒有編程要求――完全即插即用, 使用大多數(shù)模擬恒電位儀工作, 16位精度(最小值), 數(shù)字信號處理,最佳信噪比, 多次實(shí)驗結(jié)果存儲于同一個文件, 教學(xué)和研究的理想工具. 簡介 eDAQ EChemTM軟件可以運(yùn)行于Windows或Macintosh計算機(jī)上,用于采集、顯示和分析電分析伏安實(shí)驗的數(shù)據(jù)。EChem與e-corder 數(shù)據(jù)記錄系統(tǒng)和恒電位儀聯(lián)用。 EChem兼容帶有“外部輸入”端口和電流、電位記錄輸出端口的模擬信號恒電位儀。EChem使用e-corder硬件作為數(shù)字波形發(fā)生器和數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)。甚至非掃描型恒電位儀也可以升級到使用EChem的所有技術(shù)。 EChem完全兼容eDAQ恒電位儀(EA161)和高靈敏度的eDAQ微電流恒電位儀(EA162)。 技術(shù) EChem支持下列電化學(xué)技術(shù): 線性(階躍)掃描伏安法(LSV) 常規(guī)脈沖伏安法(NPV) 方波伏安法(SWV) 差分脈沖伏安法(DPV) 循環(huán)(階躍)伏安法(CV) 差分脈沖安培法(DPA) 所有的伏安技術(shù)同時支持溶出模式。 計時安培/計時庫侖/計時電位分析法由e-corder標(biāo)準(zhǔn)配置軟件Chart和Scope提供。 EChem的另一個特色是提供多脈沖伏安技術(shù)。利用梯度斜波,您可以自行設(shè)計電位波形,多達(dá)每階2個電位脈沖。EChem的這個特色功能允許您用新的實(shí)驗技術(shù),例如循環(huán)方波伏安法進(jìn)行實(shí)驗! 良好實(shí)驗室規(guī)范(GLP) EChem能夠幫助您建立良好實(shí)驗室規(guī)范(Good Laboratory Practice,簡稱GLP): 所有實(shí)驗均有日期和時間標(biāo)記; 任何實(shí)驗中所用的參數(shù)都可以恢復(fù); 數(shù)據(jù)文件中可以存儲采樣準(zhǔn)備注釋、標(biāo)準(zhǔn)加入濃度、以及全面的觀測資料; “自動存儲”模式中,每次實(shí)驗運(yùn)行的數(shù)據(jù)自動保存到硬盤,在萬一斷電的情況下,數(shù)據(jù)也可以恢復(fù); 同一個數(shù)據(jù)文件中可以保存多達(dá)999次實(shí)驗運(yùn)行結(jié)果; 數(shù)據(jù)文件兼容Windows和Macintosh計算機(jī)。 視圖模式 圖譜顯示為電流vs電位,或電流和電位vs時間。您可以依據(jù)自己的習(xí)慣來反轉(zhuǎn)電流和電位軸的方向。 數(shù)據(jù)板 數(shù)據(jù)板是內(nèi)置的一個小型電子表格。通過定位峰位置、峰高、峰面積以及更多來幫助您分析實(shí)驗數(shù)據(jù)。 轉(zhuǎn)換數(shù)據(jù) 功能包括對數(shù)據(jù)進(jìn)行平滑、積分或微分等處理。電位軸可以偏置將實(shí)驗結(jié)果顯示為針對不同的參考(例如用Ag/AgCl電極工作,但將結(jié)果顯示為相對于SHE參考電極)。而原始數(shù)據(jù)始終在內(nèi)部保留并可以重新獲得。 友好輸出 您可以輸出原始的伏安圖(以圖形或表格數(shù)據(jù)形式顯示)和峰報告到其它的繪圖、文字處理和電子表格軟件。 數(shù)字信號處理 顯示的每個數(shù)據(jù)點(diǎn)都是通過在其“采樣時段”中將電流信號平均化所得到。EChem給出最高質(zhì)量的數(shù)據(jù),這些數(shù)據(jù)可以是來自您自己的恒電位。通過因子√n提高了信噪比,"n"在讀入時也進(jìn)行了平均化處理。在實(shí)踐中,如果噪聲太大,往往通過提高數(shù)量級或其他方法來提高信號質(zhì)量。 信號的平均化通過32位浮點(diǎn)運(yùn)算進(jìn)行。這表示這些差分技術(shù)(SWW,DVP和DPA等)的運(yùn)行結(jié)果不再受限于系統(tǒng)的數(shù)字精度。
更多>本企業(yè)其它產(chǎn)品
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