英國Emitech濺射離子鍍膜儀等儀器作為世界著名電鏡制樣設(shè)備之一,在電子顯微鏡(掃描電鏡透射電鏡)的樣品制備領(lǐng)域中應(yīng)用非常廣泛。 特點 •低電壓濺射 •高分辨率精細涂層(金顆粒達2 nm) •均勻厚度沉積(掃描電鏡一般厚度為20nm 或200A) •165 mm(6英寸)腔室 •無需冷卻樣品臺 •精確的再次涂層 •膜厚度重復(fù)性好 •容易裝載或卸載樣品 •可預(yù)設(shè)沉積厚度 儀器性能指標 1.儀器尺寸：450mm W x 350mm D x 175mm H 2.工作腔室：硼硅酸鹽玻璃 165mm Dia x 125mm H 3.安全罩：聚碳酸酯 4.重量：18公斤 5.靶：60 mm 直徑 x 0.1mm 厚(金作為標準靶面) 6.樣品臺：60 mm直徑 7.真空范圍：ATM-1x10-2 mbar 8.沉積電流范圍：0-50mA 9.沉積速率：0-25nm/分 10.濺射時間：0-4 分鐘 11.預(yù)設(shè)置針閥：控制氬 12.電源：230 伏 50Hz (10 amp max. including Pump) K500和K550的區(qū)別 K500:手動控制，樣臺不旋轉(zhuǎn) K550:全自動控制 K系列(K550/K575,K450,K850...)其它制樣設(shè)備或電子顯微鏡（掃描電鏡、透射電鏡）附件： Sputter Coating Systems 離子濺射鍍膜機(鍍金、鉑、鉻...) Carbon Coating and Evaporation Systems 鍍碳機和蒸鍍機 Freeze Driers(Peltier/LN2 Cooled ) 冷凍干燥機(Peltier電制冷/液氮制冷) Critical Point Driers 臨界點干燥機 RF Plasma (Ashing/Etching) Units 等離子蝕刻單元 Cryogenic Systems for Electron Microscopes 電鏡低溫系統(tǒng) ESEM / VP Cooling Stage 環(huán)掃/可變真空冷臺 Glow Discharge Unit 輝光放電單元